SiO₂半波覆盖层对 HfO₂/SiO₂高反射膜激光损伤的影响
摘要：本研究旨在探究 SiO₂半波覆盖层对 HfO₂/SiO₂高反射膜激光损伤特性的影响。通过电子束蒸发技术制备了具有不同 SiO₂半波覆盖层状态的 HfO₂/SiO₂高反射膜样品，利用 1064nm 脉冲激光器对样品进行激光辐照实验，结合扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）等表征手段，分析膜层的损伤形貌、粗糙度变化以及损伤阈值的差异。研究结果表明，合理引入 SiO₂半波覆盖层能够有效改善高反射膜的抗激光损伤性能，为高功率激光系统中高性能反射膜的设计与制备提供了重要参考依据。
2025-08-04
