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通过在闭孔二氧化硅涂层表面嵌入纳米二氧化钛颗粒制备平衡光学性能和光催化自清洁的减反射涂层

由于具有光催化自清洁特性，光伏玻璃上的二氧化钛改性减反射涂层（ARCs）已成为研究热点。然而，平衡复合纳米涂层的光学性能、光催化性能、耐候性和工艺复杂度仍是一项挑战。

2025-08-25
光学镀膜技术：概念、工艺与应用全解析

光学镀膜技术是光学领域的一项核心技术，它通过精密控制光在介质界面的反射、透射与干涉行为，赋予镜头、透镜等光学元件“超能力”——从提升成像质量到保护元件寿命，其应用覆盖消费电子、航空航天、医疗设备等众多领域。本文将从基础概念、光学镀膜核心作用、典型镀膜工艺流程以及知名镀膜设备厂商介绍等多个方面，解析光学镀膜的奥秘。

2025-08-25
PVA 拉伸 “卡喉”、TAC 膜 “受制于人”？国产偏光片的核心壁垒与破局之道

偏光片，作为液晶显示（LCD）乃至部分OLED的关键“光学开关”，其性能直接决定了屏幕的亮度、对比度、色彩和寿命。这一看似简单的“三明治”结构（TAC保护层/PVA偏振层/TAC保护层/功能胶/PET离型膜），实则凝结了高分子物理、精密涂布、光学设计、化学处理等尖端技术。

2025-08-25
全球首台套BOPLA专用生产线落户泗洪开发区

近日，由桂林电器科学研究院有限公司牵头，江苏新义薄膜有限公司深度参与研发制造的全球首台套BOPLA薄膜专用生产线完成多功能双向拉伸试验、主体组装等工作，即将进入联调联试环节，该设备试验期间生产的BOPLA薄膜生物降解性能符合欧盟及国家标准，通过国内外权威认证和检测机构审核。

2025-08-25
新型柔性陶瓷薄膜可375℃下持续发光

在柔性光致发光材料“高温发光”的赛道上，西安工程大学张坤团队发表在Advanced Optical Materials 的最新工作把柔性可见发光的耐温极限推至375℃，并首次利用X射线全散射测量为非晶陶瓷纳米纤维的“柔韧性+高温发光”机制拍下了微观结构高清特写。

2025-08-25
高透光超疏水二氧化硅薄膜的制备及太阳能电池效率模拟

本研究提出了一种经济高效的溶胶-凝胶方法，用于制备同时具备高透射率和超疏水性的纳米多孔二氧化硅（SiO₂）薄膜，以提高太阳能电池的效率。

2025-08-25
光学薄膜生产核心装备的技术前沿与挑战

光学薄膜在现代科技中无处不在，从手机镜头到精密激光器，从高清显示屏到高效太阳能电池，它的性能直接影响着最终产品的表现。而决定光学薄膜质量和生产效率的关键，在于其生产过程中使用的核心设备。今天，我们就来聊聊这些关键设备的核心技术和未来发展。

2025-08-25
多 2 层，差在哪？9 层与 7 层共挤膜的核心区别与性能鸿沟

共挤膜的 “层数” 并非简单数字差异，而是材料组合、功能集成与性能表现的直观体现。9 层共挤膜比 7 层多 2 层结构，这 2 层带来的是材料设计灵活性、功能细分能力与应用场景的本质升级。

2025-08-04
7层共挤膜解决方案，赋能高附加值包装——您的理想合作伙伴

在食品、医药、电子等行业对包装性能要求日益严苛的今天，多层共挤膜凭借其优异的阻隔性、机械强度和环保特性，成为市场主流选择。作为拥有7层-9层上吹设备（最大宽幅2.2米）的专业共挤膜生产厂家，我们致力于通过对称与非对称结构设计，为客户提供‘高性能、定制化’的包装解决方案，助力企业抢占市场先机！

2025-08-04
7 层 / 9 层共挤膜革新：从下吹水冷到上吹定制，揭秘包装膜「全能选手」如何让你的产品「稳如泰山」！

在包装行业，一款好的膜材不仅是产品的「保护层」，更是企业降本增效的「秘密武器」！作为深耕共挤膜领域多年的实战派，今天带您深度解锁「全场景共挤膜解决方案」—— 从下吹水冷 7 层桶膜到上吹对称 / 非对称结构膜，7 层 / 9 层核心技术如何突破传统瓶颈，让包装「强韧、省料、适配全行业」？

2025-08-04
突破共挤边界！科艾斯化学新一代粘合剂引领多层共挤膜革新

在食品包装追求“锁鲜 180 天”、医药包装严守 “无菌标准”、电子包装亟需 “抗静电黑科技” 的今天，多层共挤膜的性能升级已成为全球柔性包装行业的核心命题。科艾斯化学精准洞察市场痛点，重磅推出CF420多层共挤专用粘合剂，以革命性技术破解行业三大困局，重新定义共挤膜粘结标准。

2025-08-04
无色纳米高透减反射 AR 玻璃及制备方法

本论文聚焦无色纳米高透减反射 AR 玻璃，系统阐述其光学原理、性能优势、应用领域及创新制备方法。通过研究纳米级材料与多层膜结构设计，实现玻璃在可见光波段低反射、高透过的特性，有效解决传统玻璃反射率高、透光率不足等问题。文中详细介绍磁控溅射法、溶胶 - 凝胶法等制备工艺，分析各方法工艺参数对膜层性能的影响，为无色纳米高透减反射 AR 玻璃的研发与产业化应用提供理论与实践依据。

2025-08-04

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